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ニュースリリースのリリースコンテナ第一倉庫

ニュースサイトなど宛てに広く配信された、ニュースリリース(プレスリリース)、 開示情報、IPO企業情報の備忘録。 大手サイトが順次削除するリリースバックナンバーも、蓄積・無料公開していきます。 ※リリース文中の固有名詞は、発表社等の商標、登録商標です。 ※リリース文はニュースサイト等マスコミ向けに広く公開されたものですが、著作権は発表社に帰属しています。

2024'11.29.Fri
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2007'04.13.Fri

キヤノンMJ、米Mattson社と半導体製造装置分野における提携関係を強化

キヤノンマーケティングジャパンが米国Mattson社との提携関係を強化
~Mattson社製アッシング装置の国内独占販売権を取得~


 このほどキヤノンマーケティングジャパン株式会社(社長:村瀬治男、以下キヤノンMJ)は、米国Mattson社(Mattson Technology, Inc.、社長:Robert B. MacKnight)と半導体製造装置分野における提携関係を強化し、同社製アッシング装置の日本国内における独占販売契約を締結しました。

 アッシング装置は、半導体の製造工程において回路パターンを形成するために、マスクとしてレジスト(感光材)をパターニングし、エッチングプロセスにより回路の形成をした後に不要となったレジストを除去する装置です。レジストの主成分である炭素や酸素、水素といった物質をプラズマ化したガスと反応させることで分解します。

 キヤノンMJは、これまで半導体製造装置や液晶パネル製造装置、計測装置など、様々な半導体関連機器を提供し、Mattson社とも2001年1月から同社製RTP装置(※)の国内独占販売契約を結んでいますが、今回新たに、その契約製品の範囲をアッシング装置にまで拡大するものです。

 これによりキヤノンMJは、高度なプロセス性能や高スループット、最小フットプリント(占有床面積)、優れたメンテナンス性能などを備えたMattson社製アッシング装置をラインアップに加えるとともに、これまで培ってきたアッシング装置事業の販売、技術サポートのノウハウを活かしながら、最先端の半導体製造プロセスの課題解決に貢献していきます。アッシング装置の事業目標として、今後3年間で売上120億円を目指します。

※ Rapid Thermal Processor(急速昇降温加熱装置)の略で、高温での熱処理が必要な半導体の製造工程において、ランプ加熱によりウエハーに1枚ずつ急速な熱処理を施すための装置です。


【Mattson社の概要】
社名:     Mattson Technology, Inc.
本社所在地:47131 Bayside Parkway Fremont, CA 94538
社長:     Robert B. MacKnight
設立:     1988年
従業員数:  約602名
事業内容:  アッシング装置、RTP装置の設計・製造・販売・技術サポートおよびサービス
主製品:   アッシング装置、RTP装置
URL :    www.mattson.com


【この件に関する問い合わせ先】
キヤノンマーケティングジャパン株式会社
産業機器第二販売推進部
〒108-8011 東京都港区港南2-16-2
TEL:03-3740-3349 FAX:03-3740-3428

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