アドバンテスト、電子ビーム露光装置「Ｆ３０００」を販売開始
電子ビーム露光装置「Ｆ３０００」を販売開始
６５ｎｍルール以下、３００ｍｍウェハ対応の電子ビーム露光装置「Ｆ３０００」を発売
株式会社アドバンテスト（本社：東京都千代田区 社長：丸山利雄）は、６５ナノメートル（ｎｍ）ルール以下の回路パターン、３００ｍｍウェハ対応の電子ビーム（ＥＢ）露光装置「Ｆ３０００」を開発し、販売を開始しました。
近年、デジタルテレビ、ＤＶＤレコーダー等のデジタル家電に使用され、それらの高機能・高性能化の柱となっているシステムＬＳＩは、多種多様化が進み世代交代も激しく、市場では、少量多品種への対応、受注から出荷までの工期短縮が求められてきました。しかしながら、ウェハ上に回路パターンを形成するのに現在主流である光露光方式では、微細化の進展による光マスクのコスト高騰、マスク製造日数の増加によるシステムＬＳＩ開発工期の長期化がより深刻な問題となっています。
アドバンテストは、このたび、電子ビーム直接描画方式により、６５ｎｍルール以下の回路パターンを、光マスクを用いない（マスクレス）で３００ｍｍウェハ上に形成するＥＢ露光装置「Ｆ３０００」を開発いたしました。「Ｆ３０００」は、これまで培ってきた高解像電子光学系や高信頼性・高稼働率を実現するための機能に加え、高剛性ボディの採用等の各種改良を加えることにより、パターン微細化で問題となる露光位置精度および寸法精度が約２０％向上（当社従来比）しております。
【 Ｆ３０００の主な仕様 】
対応ウェハサイズ：３００ｍｍ
最小線幅：４０ｎｍ以下
寸法精度：７ｎｍ以下
重ね合わせ精度：２０ｎｍ以下
露光方式：ブロック露光方式
ブロック選択個数：１００個
ブロック倍率：６０倍
【 価 格 】
２５億円より（構成により異なる）
【 用語集 】
●光露光方式
回路パターンをウェハ上に形成するために、まず、パターンを４倍に拡大した光マスクを原版として作成し、スキャナないしステッパと呼ばれる装置により、ウェハ上に光マスクのパターンを繰り返し縮小転写する方式。
●電子ビーム直接描画方式
電子ビームを用いてウェハ上に、デバイスパターンを直接描画する方式。
●光マスクのコストとシステムＬＳＩ
大量生産のメモリ品種とは異なり、システムＬＳＩは少量多品種の傾向がある。このため、微細化の進展とともに高価となる光マスクのコストの吸収比率が高く、システムＬＳＩビジネスとして採算が取れない場合が発生する。
●ブロック露光方式
露光する際に、繰り返しの多いパターン群を抽出し、この単位（ブロック）毎にウェハ上に一括して電子ビームを照射する方式。これにより、一つ一つのパターンを個別に照射していく従来方式に比べて電子ビームの照射数を大幅に削減することが可能となり、露光時間を短縮できる。
以上
＜製品に関するお問い合わせ先＞
ナノテクノロジー第１事業部 ＣＳ部 販売推進プロジェクト 電話：０４８０－７２－６３００