レーザーテック、中大型フォトマスクパターン欠陥検査装置「ＬＩ３４／ＬＩ４４」を発売
新製品中大型フォトマスクパターン欠陥検査装置
「ＬＩ３４／ＬＩ４４」を発表
【概要】
レーザーテックは液晶パネル生産の原版として使用される中大型フォトマスク用のパターン欠陥検査装置３４ＭＤ／４４ＭＤ シリーズをリニューアルしました。新型デジタル信号処理回路ならびに各種ＣＡＤ データフォーマットに対応するデータベース機能を搭載し、液晶用フォトマスクに加え、バンプ用およびプリント基板用フォトマスク検査も可能とした新しいシリーズ“中大型フォトマスクパターン欠陥検査装置「ＬＩ３４／ＬＩ４４」”を製品化し１０ 月１ 日から受注を開始します。これにより、当社の主力製品である大型フォトマスク欠陥検査装置５１ＭＤ シリーズを含めたデータベース対応の中型～大型フォトマスクの検査装置ラインナップが完成し、液晶用フォトマスクからバンプ用フォトマスク、プリント基板用フォトマスクまで、ありとあらゆるフォトマスクの検査ニーズにお応えすることが可能となります。この新製品は２００７年度で約５台の受注を計画しています。
【背景】
液晶用フォトマスクはＴＶ 向けパネル等の生産効率向上のため大型化する一方で、パターンは複雑化しつつあります。中大型フォトマスクにおいてもＬＴＰＳ（＊１）用などパターンが複雑化し、微細化が進んでいます。またプリント基板用フォトマスク、バンプ用フォトマスクも近年の微細化の進展で、より高い品質を要求されています。これらのフォトマスクの生産には多様なフォトマスクを高速に尚且つ高感度で欠陥検査できる検査装置が必須となっています。レーザーテックはこれら最近の多様化した市場ニーズに応えるため、従来機（３４ＭＤ／４４ＭＤ）をリニューアルすることにしました。従来機のアナログ信号処理を最新のデジタル信号処理技術によってデジタル化し、検査回路に柔軟性を持たせるとともに、多様な品種のフォトマスク用途に対応するためＤＸＦ、Ｇｅｒｂｅｒ、ＧＤＳ など多種のＣＡＤデータフォーマットに対応するデータベース検査機能を開発しました。これらの新技術を搭載したＬＩ３４／ＬＩ４４ をリリースいたします。
（＊１） Ｌｏｗ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｐｏｌｙ－Ｓｉｌｉｃｏｎ
【特長】
・ 欠陥検査回路Ａｌｌ ＤＥＴ、ＥＤＧＥ ＤＥＴ、ＣＥＬＬ ＳＨＩＦＴ を全てデジタル化することによりこれらの検査モードが各種パターンに対応可能
・ 標準データベース検査フォーマットＭＥＢＥＳ に加え、オプションでＣＡＤフォーマットＤＸＦ、Ｇｅｒｂｅｒ、ＧＤＳ に対応可能
・ Ｄｉｅ ｔｏ Ｄｉｅ検査方式（標準装備）、Ｄｉｅ ｔｏ Ｄａｔａｂａｓｅ検査方式（オプション）
・ 多様な基板サイズに対応。３００ｍｍ×３００ｍｍ～１２００ｍｍ×１１００ｍｍ（ＬＩ４４）、３００ｍｍ×３００ｍｍ～９００ｍｍ×９００ｍｍ（ＬＩ３４）
・ マスクを垂直保持し、装置上部からのダウンフローで異物付着を低減
・ 対物レンズを５倍、１０倍、２０倍のうち２本まで選択装着し、感度および検査スループットを最適化
・ ユーザーフレンドリーなオペレーションを実現
・ クリーンユニット（ＦＦＵ）を標準搭載
・ コンパクト設計による小設置面積。
ＬＩ４４ Ｗ：３４１０ ｍｍ ／ Ｄ：１０５０ ｍｍ
ＬＩ３４ Ｗ：２６８０ ｍｍ ／ Ｄ：１０１５ ｍｍ
【用途】
・ 液晶用フォトマスク検査
・ プリント基板用フォトマスク検査
・ バンプ用フォトマスク検査
【構成】
・ 本体、検査回路ラック、オペレーションラック
【主な仕様】
・ 検査面： フォトマスクのパターン面
・ 検出感度： ０．７５μｍ（対物レンズ：２０ 倍、速度：Ｓｌｏｗ）
・ 単位面積当たり検査時間： ０．２３ｓｅｃ／ｃｍ２（対物レンズ：５倍、速度：Ｆａｓｔ、検査モード：Ｄｉｅ－Ｄｉｅ）
・ マスクサイズ： ３００ｍｍ×３００ｍｍ～１２００ｍｍ×１１００ｍｍ（ＬＩ４４）
３００ｍｍ×３００ｍｍ～９００ｍｍ×９００ｍｍ（ＬＩ３４）
・ 外形寸法： Ｗ：３４１０ ｍｍ ／ Ｄ：１０５０ ｍｍ ／ Ｈ：２６００ ｍｍ（ＬＩ４４）
Ｗ：２６８０ ｍｍ ／ Ｄ：１０１５ ｍｍ ／ Ｈ：２２７８ ｍｍ（ＬＩ３４）
・ 重量： 約３，７００ Ｋｇ（ＬＩ４４）
約２，７００ Ｋｇ（ＬＩ３４）
【標準販売価格】
・ 約２－３億円（価格は構成により異なります）
【受注・販売目標台数】
・ ２００７年度 受注台数約５台（約１３億円）
【受注開始時期】
２００６年１０月１日