ＳＩＩナノテク、ＦＩＢ－ＳＥＭクロスビーム装置「ＮＶｉｓｉｏｎ ４０」を発表
ＦＩＢ－ＳＥＭクロスビーム装置の新製品「ＮＶｉｓｉｏｎ ４０」を発表
幅広いナノテク分野で利用可能な多機能型ラボ用装置
ＳＩＩナノテク・カール ツァイス共同開発 第二弾
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：ＳＩＩナノテク、社長：船本 宏幸、本社：東京都中央区新富２－１５－５ ＲＢＭ築地ビル、ＴＥＬ：０３－６２８０－００７０）とカール ツァイスＮＴＳ ＧｍｂＨ（社長：Ｄｒ． ディルク ステーンカンプ、本社：ドイツ オーベンコーヘン、以下ＣＺ社）は、米国時間２００６年７月３１日、米国シカゴで開催されている電子顕微鏡に関する国際学会Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ ＆ Ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｉｓ ２００６（Ｍ＆Ｍ２００６）で両社が共同開発したＦＩＢ－ＳＥＭクロスビーム装置の新製品 「ＮＶｉｓｉｏｎ ４０（エヌビジョン４０）」を発表しました。この製品は１００ｍｍ以下の試料に対応したラボ用の装置として、材料分析、半導体、ライフサイエンスなど広い分野で最先端の研究開発に利用することを想定して設計され、本年７月１３日に発表した「ＸＶｉｓｉｏｎ ３００」に続く共同開発第二弾の製品となります。ＣＺ社のＧＥＭＩＮＩ（ジェミニ）電子ビーム技術とＳＩＩナノテクの集束イオンビーム技術、ガスアシストプロセス技術を組合せ、従来にない高性能・高機能な装置を提供します。
ＮＶｉｓｉｏｎ ４０は二次電子およびエネルギー選択された反射電子（ＥｓＢ）の二種類のインレンズ式検出器を持つＧＥＭＩＮＩ（ジェミニ）鏡筒を装備し、高分解能顕微鏡観察可能なＣＺ社製ＵＬＴＲＡ走査電子顕微鏡をプラットホームとして開発されました。この二つの検出器は短い試料観察距離、超低加速電圧においても同時に大変高い検出効率を実現します。このプラットホームにＳＩＩナノテク製の新型ＦＩＢ鏡筒とマルチチャンネル・ガス供給システムが搭載されました。このＦＩＢ鏡筒により４ｎｍの高分解能観察を実現し、かつ高いビーム電流密度を利用した高スループット加工や、低加速電圧での加工が可能となりました。また、ＧＥＭＩＮＩ鏡筒での高分解能ＳＥＭ観察機能により、エッチング加工中のリアルタイム高分解能モニタリングを可能とし、正確な加工位置決めだけでなく、より正確な加工終点認識をも可能にしました。これらの技術をもとに、従来製品に比べより高スループットかつダメージが少ない高品位なＴＥＭサンプル作製を実現します。
両社では今後、ＮＶｉｓｉｏｎ４０を新素材、半導体からライフサイエンスまで最先端のナノテクノロジー研究を支援するツールとして、ワールドワイドに拡販してまいります。
以 上
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エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
営業三部
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