ニコン、ＡｒＦ液浸スキャナーを台湾の大手半導体メモリー会社に提供

ニコン、ＡｒＦ液浸スキャナーを台湾の大手半導体メモリー会社に提供

台湾の半導体メモリー大手がニコンの装置を選択
力晶半導体（Ｐｏｗｅｒｃｈｉｐ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）、次世代メモリーラインにニコンの液浸スキャナーを採用


　株式会社ニコン（社長：苅谷道郎）は、力晶半導体（Ｐｏｗｅｒｃｈｉｐ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）が５０ナノメートルノードＮＡＮＤフラッシュメモリー生産対応の最先端装置として、ニコンのＡｒＦ液浸スキャナーＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃを正式採用すると発表しました。

　装置は台湾・新竹の力晶半導体の工場に設置されます。今回の採用は、他社装置と比較してニコンの装置に液浸起因の欠陥がなく、また同装置が従来のドライタイプＡｒＦスキャナーと同等以上の重ね合わせ精度を実現したことが認められたものです。

　ＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃは、２００６年１月に出荷した世界で初めてＮＡ（開口数）１以上（１．０７）を実現した液浸スキャナーＮＳＲ－Ｓ６０９Ｂで培った液浸露光技術を生かして開発されました。ニコンの独自技術であるタンデムステージにより高スループット、高アライメント精度、安定した露光プロセスを実現しました。また独自のローカルフィルノズルにより液浸起因による欠陥（ディフェクト）をほぼ完全に防ぐとともに、ドライと同等以上の重ね合わせ精度も実現しています。ＮＳＲ－Ｓ６１０Ｃは、投影系にＮＡ１．３０の反射屈折光学系を搭載した、世界初の４５ナノメートル　ハーフピッチ量産対応液浸スキャナーです。

● 関連リンク

• （株）ニコン　ホームページ