レーザーテック、フォトマスク欠陥検査装置「ＭＡＴＲＩＣＳシリーズ」を発売
新製品フォトマスク欠陥検査装置
「ＭＡＴＲＩＣＳ シリーズ」を発表
【概要】
レーザーテックは、設計ルール６５ｎｍ 以降の半導体デバイス用フォトマスクに対応する新製品“フォトマスク欠陥検査装置「ＭＡＴＲＩＣＳ シリーズ」”を製品化し、１２月より受注を開始します。
ＭＡＴＲＩＣＳシリーズは、マルチダイモード専用のＸ６５１，シングルダイモード専用のＸ６５２，マルチダイモード・シングルダイモード兼用のＸ６５３の３モデルをラインアップ致します。
＊ＭＡＴＲＩＣＳ： Ｍａｓｋ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ／Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｉｍａｇｅ Ｃｏｍｐａｒｉｓｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ
【背景】
レーザーテックは、１９７６年よりフォトマスク欠陥検査装置を開発・販売し，本分野で長い歴史と経験を持つ会社です。この度発表するＭＡＴＲＩＣＳシリーズは、今までのプラットフォームを一新すると共に、最先端の技術を結集し、高い検出感度を達成致しました。
フォトマスクは半導体デバイスの回路パターン原版という性格上、常に高い品質が要求されます。加えて、半導体デバイスパターンの微細化と位相シフト・ＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ ＝ 光近接効果補正）技術の普及に伴い、フォトマスクパターンは益々微細かつ複雑なものとなっています。一方、ＡｒＦリソグラフィを用いているウェハファブで、フォトマスク上のヘイズ・成長性異物の問題が顕在化しており、定期的なマスク検査の重要性が非常に高まっています。
このような状況において、リーズナブルなコストとハイスループットで、微細かつ複雑なフォトマスクパターンを高感度で検査できる装置が待ち望まれていました。レーザーテックのＭＡＴＲＩＣＳシリーズは、正にこの要望に答えるものです。
【特長】
・ ＥＰＳＭ， ＡＰＳＭ各最先端の位相シフトマスクに対応。
・ Ａｓｓｉｓｔ Ｂａｒ， Ｓｅｒｉｆ， Ｈａｍｍｅｒ Ｈｅａｄ等のＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ＝光近接効果補正）マスクに対応。
・ 光源に２４８ｎｍの輝線を有する水銀キセノンランプを使用し、レーザー光源に比べ安いランニングコストを達成すると共に、容易なメンテナンスを可能にしています。
・ ＯＨＴ等によるフォトマスクの自動搬送に対応可能。（オプション）
・ ペリクル貼り付け後のフォトマスクも検査可能。
・ 電源・制御系統も本体に内蔵したコンパクト設計（Ｗ：１５５５ｍｍ ｘ Ｄ：２５５５ｍｍ）。
【用途】
・ フォトマスク製造工程における出荷前検査
・ ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査
【構成】
・ 検査部、制御部および搬送部等を一体化した筐体
【主な仕様】
・ 検査方式： マルチダイモード（アレイモード含む）
シングルダイモード
及びこれらの複合検査
・ 検査光： ３モード（透過光、反射光、透過／反射同時照明光）
・ 検出感度： 最高感度３０ｎｍ
＊検出感度は欠陥タイプ、検査方式により異なります。
・ 検査時間： １０５ 分／１００ｍｍ□（ノーマルスキャン）
： ６０ 分／１００ｍｍ□（ファーストスキャン）
マスクサイズ： ６０２５
【標準販売価格】
・ 本体価格 ７～９億円（価格はモデル・仕様により異なります）
【受注・販売目標台数】
・ ２００７年度 受注目標 ７台
【受注開始時期】
・ ２００６年１２月