昭和電工、半導体・液晶パネル向け高純度塩素の生産能力を増強
半導体・液晶パネル向け高純度塩素の生産能力増強について
昭和電工株式会社（社長：高橋 恭平）は、このたび、半導体や液晶パネルの製造に使用される高純度塩素の生産能力の増強に着手いたしました。
高純度塩素は、これまで半導体製造のエッチング工程（※１）に主に使用されていましたが、最近では、液晶パネルのアレイ製造工程（※２）におけるエッチングガスとしても、その需要が急拡大しています。現在当社は、川崎製造所において年産３００トンの高純度塩素の精製および充填能力を有していますが、２００７年上期中に精製能力を１０００トンへ、充填能力を６００トンへ引き上げます。また今後の需要の伸長に応じ、２００８年までに充填能力を１０００トンとする計画です。
半導体の製造工程では高純度塩素をはじめとする複数の特殊材料ガスが使用され、年々進む微細加工に対応して使用ガスの種類も一部変化していますが、高純度塩素に対しては安定した需要が期待できます。また液晶パネル向けについては、ガラス基板の大型化により現在需要が急拡大しています。こうしたことから、高純度塩素の市場規模は、２０１０年には、２００５年対比約３倍となることが予想されています。
当社は、現在、エッチングガス、クリーニングガス（※３）、成膜ガス（※４）の３分野における１８種類の特殊材料ガスを事業化しています。中期経営計画「プロジェクト・パッション」においては、特殊材料ガスを含む「半導体プロセス材料」を、当社グループの成長を牽引する成長ドライバーに位置づけています。新製品の開発やより一層のお客様ニーズへの対応により、２００８年には、「半導体プロセス材料」の売上を３００億円に引き上げる計画です。
以上
（※１）エッチング工程：シリコン基板の上を覆う薄い膜に、微細な溝や孔を刻みつけて電子回路等を作る工程
（※２）アレイ製造工程：ガラス基板上に薄膜トランジスター（ＴＦＴ）の配列を作りこむ工程
（※３）クリーニングガス：成膜工程等で使われるＣＶＤ炉に付着する不要な化学物質を取り除くためのガス
（※４）成膜ガス：シリコン等の基板に薄い酸化膜や窒化膜を形成するために使われるガス