エルピーダメモリとＰＳＣ、台湾におけるＤＲＡＭ生産合弁会社設立に基本合意
エルピーダ・ＰＳＣ 台湾におけるＤＲＡＭ生産合弁会社設立に基本合意
エルピーダメモリ株式会社（代表取締役社長兼ＣＥＯ：坂本幸雄以下、エルピーダ）とＰｏｗｅｒｃｈｉｐ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐ．（Ｃｈａｉｒｍａｎ：Ｄｒ． Ｆｒａｎｋ Ｈｕａｎｇ 以下、ＰＳＣ）は、台中にあるサイエンスパーク内にあらたにＤＲＡＭ生産合弁会社を設立することに関し、基本合意に至ったことを発表いたします。同時に、将来の微細加工プロセス開発における一端を二社の共同開発で担うことについて基本合意いたしました。
製造、開発におけるコラボレーションを通した両社間のアライアンスにより、ＤＲＡＭ業界において両社合わせて世界Ｎｏ．１のポジションを確保する考えです。
本日７日、台北市内において、エルピーダ、代表取締役社長兼ＣＥＯ 坂本幸雄とＰＳＣ、ＣｈａｉｒｍａｎのＤｒ． Ｆｒａｎｋ ＨｕａｎｇがＤＲＡＭ生産合弁会社設立に関する基本合意書に調印いたしました。
新会社は、台中Ｈｏｕ ｌｉ サイエンスパークに現在建設中のＰＳＣの３００ｍｍ ウェハラインを譲り受け、設備を搬入の後ＤＲＡＭの生産をスタートさせる計画です。なお両社は、初期投資として約４００億台湾ドル（両社合計、約１，６００億円）をかけて新会社をスタートさせます。立ち上げ時の生産能力は月産３０千枚規模を予定しておりますが、本合弁会社を将来的に３００ｍｍ ウェハで最大２４０千枚／月の生産能力をもつ超大規模なＤＲＡＭ 製造会社とする構想も検討下にあります。
また、ＰＳＣでは資金投資に加えて、エルピーダでの微細加工プロセス開発においてその一端を担う開発要員を割り当てる計画です。
ＰＳＣ、ＣｈａｉｒｍａｎのＤｒ． Ｆｒａｎｋ Ｈｕａｎｇは次のようにコメントしています。「エルピーダはＰＳＣとの強力なリレーションシップを重要視し、大規模な投資先として、シンガポールや中国、日本国内でもなく台湾を選びました。このような提携がなければ、台湾におけるＤＲＡＭ 生産規模を急速に拡大することはできないでしょう。ＰＳＣは新会社での成果を生かして、世界レベルのメモリソリューションカンパニーとしての地位を確保していく所存です。」
また、エルピーダの坂本は次のように述べています。「エルピーダは、既に広島エルピーダメモリ・３００ｍｍ ウェハラインで高い生産性を実現しており、高性能ＤＤＲ２ ＤＲＡＭを市場に供給することによって高い信頼実績を得ています。
加えて現在、最先端である７０ｎｍ プロセスの開発は非常に好調に推移しており、まもなく広島エルピーダメモリの３００ｍｍ ウェハラインにて量産用として生産を開始する見込みです。そのような状況から当社としては、今ＰＣ市場に改めて打って出ることが世界Ｎｏ．１となりうるチャンスと判断しました。我々は今回設立する合弁会社へこの新しい７０ｎｍ プロセス技術を積極的に展開していきます。
エルピーダのＤＲＡＭ業界をリードする先端技術とＰＳＣの優れたコスト競争力を協業させることにより、本合弁会社は、競争力ある価格で高品質のＤＲＡＭを市場へ提供できると確信しています。」
現在、ＰＳＣが台中Ｈｏｕ ｌｉ サイエンスパークに建設中の生産拠点は、３００ｍｍ ウェハで月産最大２４０千枚規模のものです。そのうちの１／４である６０千枚分のファブについては、現在、クリーンルームを建設中です。
新会社は、まずこのファブに対し、２００７年度第１四半期（４～６月）に設備を導入します。その後、第２四半期（７～９月）に７０ｎｍ プロセスでの量産を開始、その生産量を３００ｍｍウェハで月産３０千枚規模まで拡大する計画です。
将来的には、３００ｍｍ ウェハで６０千枚／月の生産能力を持つファブを４つ完成させ、最大２４０千枚／月の大規模なＤＲＡＭ 生産会社となることが現在の目標となります。
なお、新会社のＤＲＡＭ 生産能力は、エルピーダとＰＳＣの二社に対し、基本的に等分に供給されます。
今回のエルピーダとＰＳＣによる合弁会社の設立、及び資金、技術、人材の共同投資は、両社による世界で最もコスト競争力のあるＤＲＡＭ製品の提供を可能とし、ＤＲＡＭ業界における世界Ｎｏ．１プレーヤーとしての地位確立を実現するものと確信しています。
以上
ＰＳＣについて
Ｐｏｗｅｒｃｈｉｐ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐ．（５３４６．ＴＷＯ、以下ＰＳＣ）は、１９９４年にＴａｉｗａｎ Ｈｓｉｎｃｈｕ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐａｒｋに設立した、ＤＲＡＭ 製造・販売会社です。１９９８年に上場し、２００６年現在、３００ｍｍ ファブ３ラインと２００ｍｍファブ１ライン有し、従業員６，２００名以上、また資本金はＮＴ＄６２Ｂｉｌｌｉｏｎ以上となっています。ＰＳＣでは設立時より、日本ハイテク企業との長期戦略的提携に注力しており、そういった戦略的パートナーであるエルピーダメモリ株式会社や株式会社ルネサステクノロジとの提携の下、ＤＲＡＭ、フラッシュメモリやシステムＬＳＩなどの先端製品を生産しています。
詳細は、http://www.psc.com.tw にてご覧いただけます。
エルピーダについて
エルピーダメモリ株式会社（ＴＳＥ：６６６５）は、ＤＲＡＭ（ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ）のリーディングカンパニーです。世界トップレベルの技術力により、開発・設計・製造・販売活動を積極的に展開しています。最先端の製造技術を誇る生産拠点、広島エルピーダメモリ株式会社（前工程）と秋田エルピーダメモリ株式会社（後工程）を有し、また、世界のお客さまをサポートする販売・マーケティング拠点は、日本国内に加え、北米、ヨーロッパ、台湾、中国、シンガポールにあります。エルピーダは、大容量、高速、低消費電力、小型パッケージなどの先端製品ラインナップにより、ハイエンドサーバ、携帯電話、デジタル家電など幅広い応用分野にお応えします。
当社に関するさらに詳細な情報は、http://www.elpida.com/ja/ にてご覧いただけます。
（※添付資料あり）