ギガフォトン、インジェクションロック技術を搭載したＡｒＦエキシマレーザー新機種を発売
ギガフォトン、新製品「ＧＴ６１Ａ」を発表
ＡｒＦエキシマレーザ「ＧＴシリーズ」の最新モデルとして、一層の性能向上と共に
露光装置のダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献
ギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市、代表取締役社長：渡辺裕司、http://www.gigaphoton.com/）は、Ｎ．Ａ．１．３を超えるＨｙｐｅｒ Ｎ．Ａ露光機に対応するリソグラフィ用光源として、インジェクションロック技術を搭載したＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザの新製品「ＧＴ６１Ａ」（発振波長：１９３ ｎｍ、発振周波数：６，０００ Ｈｚ）を開発したと発表しました。すでにレーザテストを終えて量産出荷が始まっており、ギガフォトンでは２００７年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいます。
今日の最先端半導体リソグラフィプロセスでは、ますます加速する集積回路パターン微細化に対応すべく、ＡｒＦドライリソグラフィが先端量産工場の主力となる一方で、液浸ＡｒＦリソグラフィ技術が次世代プロセスの主流となってきました。また、リソグラフィ光源のＡｒＦレーザに対しては、液浸ＡｒＦリソグラフィに対応できる高い出力、レンズのダメージを抑えて高いスループットを確保するための高周波数、スペクトル安定性能への要求が一層高まってきています。
ギガフォトンは、このような市場のリソグラフィーロードマップに対応して、２００５年春より業界初となるインジェクションロック方式の露光用ＡｒＦエキシマレーザ「ＧＴ４０Ａ」（発振周波数：４，０００ Ｈｚ、出力：４５ワット）の量産出荷を開始し、２００６年末には周波数を６，０００Ｈｚ、出力を６０Ｗまで高めたＧＴ６０Ａを出荷しました。
ＧＴ６１Ａは、ＧＴ４０Ａ／ＧＴ６０Ａに続くＧＴシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの３世代目にあたります。ギガフォトンはＧＴ６０Ａで実現した高出力、高周波数技術に加え、ＧＴ６１ＡではＮ．Ａ．１．３以上の液浸露光装置へ対応するために、スペクトル幅（Ｅ９５％）をＧＴ４０Ａ／ＧＴ６０Ａから３０％向上させることに成功しました。また、性能の向上だけでなくレーザチャンバの寿命を大幅に改善し、ダウンタイム低減・メンテナンス費用削減に大きく貢献します。
ＧＴ４０Ａ／ＧＴ６０Ａはすでに各国の主要ユーザーに数多く受け入れられており、その設計思想・信頼性が高く評価されています。ＧＴ６１Ａは、ＧＴ４０Ａ／ＧＴ６０Ａと同じプラットフォーム上に設計されており、最大限の共通化が図られているため、ユーザーにとってその導入当初から高い信頼性が期待できます。
■ＧＴ６１Ａの特長
１．スペクトル性能
スペクトル幅（Ｅ９５％）０．５ｐｍを実現したＧＴ６０Ａに大幅な改良を加え、同じプラットフォーム上でスペクトル幅０．３５ｐｍを実現しました。また、新開発の高精度の計測装置および安定化機構を標準で採用したことにより、装置ライフタイムに亘り、スペクトル性能の高い安定性が可能となりました。これにより、露光プロセスの安定度への貢献が見込まれます。
２．稼働率・信頼性
レーザチャンバ寿命延長によりメンテナンスダウンタイムの低減と同時にコスト削減が可能です。もちろんＧＴシリーズの大きなアドバンテージであるモジュール交換性を含むサービス性も確保されており、半導体工場で必須とされる高信頼性・高稼働率を実現しています。また、実績のあるＧＴ４０Ａ／ＧＴ６０Ａプラットフォーム上に設計され最大限の共通化が図られており、導入当初から高い信頼性が期待できますので安心して導入いただけます。
＊仕様概要、モジュール保守間隔は添付資料をご参照ください。
ギガフォトン株式会社は２０００年、世界２位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界２位の露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。
社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。
ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。