日立ハイテク、極微小部分析を安定して実現する電界放出形透過電子顕微鏡を発売
高性能の電界放出形透過電子顕微鏡「ＨＦ－３３００形」を発売
－安定した超高分解能と新たな解析手法を併せ持った、次世代ＦＥ－ＴＥＭ（＊１）－
株式会社日立ハイテクノロジーズ（執行役社長：大林 秀仁）は、高輝度冷陰極電界放出電子銃と３００ｋＶの高加速電圧を組み合わせた、新型の電界放出形透過電子顕微鏡（ＦＥ－ＴＥＭ）「ＨＦ－３３００形」を開発し、５月１４日より発売します。
冷陰極電界放出電子銃は、その高い輝度とエネルギー分解能により、高性能電子顕微鏡になくてはならない電子源として高く評価されています。当社では、本電子源の有用性にいち早く注目し、走査電子顕微鏡だけでなく、透過電子顕微鏡においても本電子源を広く採用しています。
今回開発した「ＨＦ－３３００形」では、この冷陰極電界放出電子銃と３００ｋＶの高加速電圧を組合せることで、原子レベルの超高分解能観察（分解能：０．１ｎｍ）とナノオーダーの極微小部分析を安定して実現しています。
透過電子顕微鏡では加速電圧が高いほど、分解能が高くなるだけでなく、透過能も向上します。すなわち、厚い試料でも高い解像度で観察することが可能です。また、原子番号が大きく電子線が透過しにくい金属やセラミックスの観察においても、高い加速電圧が求められています。「ＨＦ－３３００形」では３００ｋＶの高加速電圧を採用することで、試料の厚さ・組成に左右されることの少ない、安定的な超高分解能観察を可能としました。
極微小部分析においては、エネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＸ（＊２））や電子エネルギー損失分光器（ＥＥＬＳ（＊３））に加えて、電子線ホログラフィー、位置分解型ＥＥＬＳ、ナノ電子線回折という新たな解析手法を提案します。電子線ホログラフィーは極微量元素分析への、位置分解型ＥＥＬＳはナノ領域の元素状態解析への、ナノ電子線回折は結晶構造の局所高精度解析への応用が期待されています。「ＨＦ－３３００形」はこれらの手法により、高度化する材料解析ニーズにお応えします。
また、日立集束イオンビーム加工装置（「ＦＢ－２１００形」）とはホルダリンケージを実現しており、メッシュを受け渡すことなく、試料作製からＴＥＭ解析までの一連の作業を実施できます。ＴＥＭ試料作製に欠かせない技術として高い評価を受けているマイクロサンプリング（日本国特許：２７７４８８４、米国特許：５２７０５５２）を併用することで、特定部位のＴＥＭ解析を迅速かつ確実に行うことができます。
「ＨＦ－３３００形」の本体標準価格は、２億８千５百万円です。出荷開始は２００７年９月の予定で、初年度５台の受注を見込んでいます。
（＊１）ＦＥ－ＴＥＭ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ（電界放出形透過電子顕微鏡）
（＊２）ＥＤＸ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ－ｒａｙ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ（エネルギー分散型Ｘ線装置）
（＊３）ＥＥＬＳ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｅｎｅｒｇｙ－Ｌｏｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ（電子エネルギー損失分光器）
＜透過電子顕微鏡「ＨＦ－３３００形」＞
【主な仕様】
像分解能 ０．１０ｎｍ（格子像）
０．１９ｎｍ（粒子像）
０．１３ｎｍ（インフォメーションリミット）
倍率 ×２００ ～ ×１，５００，０００
加速電圧 ３００ｋＶ、２００ｋＶ（＊）、１００ｋＶ（＊）
電子源 冷陰極電界放出形電子銃
試料微動 Ｘ， Ｙ＝±１ｍｍ
試料傾斜 ±１５°
ＥＤＸ立体角 ０．１５ｓｒ
真空排気系 ターボ分子ポンプ、イオンポンプ
【主な特長】
・高輝度冷陰極電界放出電子銃
・超高分解能観察：格子像０．１０ｎｍ
・試料の厚さ／組成に影響されることの少ない、３００ｋＶの高加速電圧
・電子線ホログラフィー（＊）、位置分解型ＥＥＬＳ（＊）、ナノ電子線回折（＊）の新たな解析手法
・マイクロサンプリング（日立特許）を備えたＦＩＢ（＊）とのホルダーリンケージ（日立特許）
・ＳＴＥＭ（＊）と３Ｄ解析ホルダ（＊）による多方向構造解析にも対応
（＊）オプションアイテム
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