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ニュースリリースのリリースコンテナ第一倉庫

ニュースサイトなど宛てに広く配信された、ニュースリリース(プレスリリース)、 開示情報、IPO企業情報の備忘録。 大手サイトが順次削除するリリースバックナンバーも、蓄積・無料公開していきます。 ※リリース文中の固有名詞は、発表社等の商標、登録商標です。 ※リリース文はニュースサイト等マスコミ向けに広く公開されたものですが、著作権は発表社に帰属しています。

2024'11.25.Mon
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2007'05.17.Thu

STマイクロとSAES、次世代MEMSジャイロスコープ開発・生産とサポートで共同事業

SAES(R) GettersとSTマイクロエレクトロニクスが、
多軸MEMSジャイロスコープ向けテクノロジーの統合を発表

STのナノ・スケールのジャイロスコープが、
SAESの高真空度維持用ゲッター・フィルム・テクノロジーによって、
感度の向上と動作の安定性増大を実現


 高真空度アプリケーションでのゲッター技術に関して世界トップクラスのSAES(R) Gettersグループ(以下SAES)と、MEMS(Micro Electro-Mechanical Systems)デバイスの製造・販売において世界トップクラスのSTマイクロエレクトロニクス( http://www.st-japan.co.jp/ 、NYSE:STM、以下ST)は、次世代MEMSジャイロスコープの開発と生産をサポートする共同事業契約を締結しました。MEMSのウェハー・レベル・パッケージングでの高真空度維持において最も先進的なゲッター薄膜ソリューションであるSAESのPaGeWafer(R)をSTのジャイロスコープに適用することによって、デバイスの感度と安定性の向上を実現します。

 MEMSベースのICは、シリコンが持つユニークな電気的特性と優れた機械的特性の両方を活用することによって、半導体産業に大変革を起こしています。
 シリコンの電気的特性は過去40~50年にわたって半導体事業の基盤となってきましたが、シリコンの機械的特性が活用されるようになったのは比較的最近のことであり、MEMSジャイロスコープは、中でも最新の領域です。これらの新しいジャイロスコープ(角速度を測定するデバイス)は、STの2軸および3軸MEMS加速度計の製品群を補完するとともに、完璧な慣性センサ・プラットフォームをユーザに提供します。小型、高感度、および低消費電力が組み合わさったSTのMEMSジャイロスコープによって、携帯電話、ポータブル・デバイス、MP3/MP4プレーヤ、PDA、ゲーム機、ナビゲーション・デバイスなど幅広いコンスーマ・アプリケーションにおいて新たな機能を可能にします。
 STでは、2008年前半にジャイロスコープの量産を立ち上げる予定です。

 ジャイロスコープ市場は、複数のアプリケーション分野において急速に成長しています。自動車の電子式スタビリティ・システムやGPSレシーバに加えて、ポータブル通信デバイスのモーション・ユーザ・インタフェースやビデオ・カメラ/デジタル・カメラのイメージ・スタビライザを含むコンスーマ分野でもMEMSジャイロスコープが立ち上がると業界アナリストは予言しています。
 アナリストの予想では、MEMSジャイロスコープの市場規模は、2006年の4億ドルから2012年には12億ドル以上へ成長し、今後5年間で3倍になると予測されています。

 2006年11月、STはアグラテ工場(イタリア・ミラノ近郊)にMEMSデバイス専用の新しい最先端200mm(8インチ)半導体ウェハー生産ラインを落成しました。
 STの第1世代ジャイロスコープは、現在パイロット生産と品質評価が行われており、リニア加速度センサと同じラインで製造されることになります。

 SAESは、最近リナーテ(イタリア、ミラノ郊外)本社にあるPaGeWaferの生産ラインをアップグレードし、すでに利用可能な4、5、および6インチ・フォーマットの処理に加えて、8インチ・フォーマットにも対応しました。
 SAESの8インチ・フォーマットの処理ラインは2006年末の時点で産業用向けに完全な量産稼働体制に入っており、すでにSTの8インチ・ウェハに使用されています。

 PaGeWaferは、ウェハとウェハを密封ボンディングしたMEMSデバイス内の真空度または不活性ガスの長期的安定性を保証するために、SAES Gettersグループによって設計されたものです。パターンを持っている数ミクロン厚のゲッター・フィルムで構成され、ユーザの要件に従って形状と深さを定義された特定のキャビティ上に配置されます。MEMSパッケージのキャップ・ウェハとして動作することによって、PaGeWaferはH2O、O2、CO、CO2、N2、およびH2といったすべての活性ガスを最大限吸収し、デバイスの信頼性と寿命を増大させます。8インチ・ウェハ・フォーマットのような大型基板にゲッター・フィルム技術を適用することのメリットは、圧力分布の均一性向上と、プロセス時間の大幅な短縮です。PaGeWaferテクノロジーの提供に加えて、SAESは気密パッケージ設計 / 特性評価、真空度要件定義にまで及ぶ技術コンサルティング、およびアウトガス / 残留ガス分析サービス提供の面でもSTに対するサポートを行います。

 SAESのMEMS用ゲッター事業開発マネージャであるMarco Moraja氏は次のようにコメントしています。「当社は、STのような、MEMS市場における主要メーカーとパートナーシップを構築することを非常に嬉しく思っています。当社では、コンスーマ・エレクトロニクス分野のMEMSモーション・センサの市場の開拓を、最も重要な目標の1つとして考えています。STの先端MEMSジャイロ・スコープにPaGeWaferテクノロジーが統合されるということは、要求の厳しい自動車産業を含め、既に我々が対応しているMEMSアプリケーションへのゲッター・フィルム製品の高い有用性を示しています。」

 STのMEMS製品部門ジェネラル・マネージャであるBenedetto Vignaは次のようにコメントしています。「STは、SAES Gettersグループのような業界リーダーとのパートナーシップにおいて長い成功の歴史があります。SAESのゲッター・フィルム・テクノロジーにおける専門性をSTの業界をリードするMEMSテクノロジーに統合することによって、ユーザは最高品質のMEMSジャイロスコープを入手できることが保証され、STは急成長中のMEMSビジネスをさらに拡大することができます。」


SAES Gettersグループについて
 サエス・ゲッターズ グループは、ゲッター・テクノロジーのパイオニアとして、超高真空や超高純度ガスが要求される各種科学・産業アプリケーション分野において世界のリーダーを務めています。当グループのゲッター・ソリューションは、過去60年間にわたり、情報表示装置やランプ産業、大型バキュームパワーチューブからシリコンベースのマイクロメカニカル装置の極小化、そして超高真空システムや真空断熱技術にいたる数々分野で、その技術革新を支援してきました。また、当グループは、半導体とその他ハイテク産業向け超高純度ガス取扱技術のリーダーでもあります。2004年からは、特殊冶金および材料科学の中核技術を一層強化して、新しい光学結晶および形状記憶合金製品ラインの分野に事業を拡大しています。当グループは、3大陸にまたがる10工場の総生産能力と世界規模の販売サービスネットワークを有し、900名近い従業員の多文化能力と知識を結合する真のグローバル企業となりました。サエス・ゲッターズ グループは、イタリアのミラノ郊外のリナーテ(Linate)にグループ本社を置いており、1986年からイタリア株式取引所STARセグメントに上場しています。
 詳細については http://www.saesgetters.com をご覧ください。


STマイクロエレクトロニクスについて
 STマイクロエレクトロニクスは、多種多様な電子機器向けに半導体製品やソリューションを開発・提供する世界的な総合半導体メーカーです。STは、他社の追随を許さない高度なシリコン技術とシステムノウハウを擁しており、幅広いIP(Intellectual Property)ポートフォリオ、戦略的パートナーシップ、大規模な製造力との組合わせにより、SoC(システム-オン-チップ)技術に関し世界的リーダーとしての地位を確立しています。またSTの半導体製品は、市場における技術やシステムのコンバージェンス化を促進するために重要な役目を果たしています。STは、ニューヨーク証券取引所(NYSE:STM)、パリ証券取引所(Euronext Paris)とミラノ証券取引所に上場されています。
 2006年の売上は98.5億ドルで、純利益は7億8200万ドルでした。
 さらに詳しい情報はSTのホームページをご覧ください。


SAES Gettersグループ - 見込み情報について
 このニュースリリースには、現時点での将来予測に基づいた見込み情報、またリスクや不確実性のある見込み情報が含まれており、そうした様々なリスクや不確実性は、将来予測に関する記載と当社の実績および業績が大いに異なる要因となりえます。これらの要因は、新製品を予定価格および予定期日に販売する能力、主要顧客との関係を維持する能力や当社がビジネスを行う各国における経済環境を含みます。また、それらの要因は、前述に限らず、あらゆる要因を含みます。当社はこの日付以降の出来事や状況、もしくは不測の事態の発生によって、これら見込み情報に起こる可能性のある、あらゆる改訂結果を公表する義務を負いません。

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