ノア、米ティーガル社製のプラズマエッチング装置とＰＶＤ装置を販売開始
ティーガル社製のプラズマエッチング装置とＰＶＤ装置を販売開始
株式会社ノア（本社：東京都渋谷区、社長：田平博志、以下ノア）は米国Ｔｅｇａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（本社：米国カリフォルニア州、社長：Ｔｈｏｍａｓ Ｒ．Ｍｉｋａ、以下ティーガル社）のプラズマエッチング装置とＰＶＤ装置の日本における販売代理店契約を締結し、同社製品の国内販売を２００６年１０月１日より開始いたしました。ティーガル社の半導体製造プロセス用途のエッチング装置は、これまでに世界市場において３，０００台以上の出荷実績があります。同社独自のプラズマ技術により、ポリシリコン、シリコン酸化膜及び各種メタル薄膜対応のエッチング装置を取り揃え、最先端デバイスのＦｅＲＡＭ等向けの特殊な高誘電体材料や電極材料などのプロセス用途で世界の半導体メーカーの信頼を獲得しています。さらに、２００２年よりラインナップに加わったＰＶＤ装置は、特にアンダーバンプ電極層形成、バックサイドメタライゼーション工程の装置として評価を得ており、ＭＥＭＳやアナログ系デバイス用途で多数採用されています。
ノアでは、これらの製品に加え中古装置を含む米国並びに韓国製のプロセス装置のラインナップを強化し、前工程プロセス装置を取扱う営業グループを拡充するとともに、お客様に提供できる半導体製造工程での選択肢を広げております。これらの相乗効果により、前工程プロセス装置分野で２００８年６月期には約２０億円の売上げを目指し、積極的な営業活動を展開してまいります。
＜ティーガル社について＞
１９７２年にエッチング装置メーカーとして創設、１９７８年に米国半導体メーカー大手のモトローラ社の傘下に入り多くのプラズマエッチング装置を開発製造しました。１９８９年に再度独立し、１９９５年には米国ナスダック市場に上場しました。２００２年にＰＶＤ装置メーカー、２００３年にＣＶＤ装置メーカーを吸収して最先端デバイスに対応する成膜装置開発を開始しました。最先端メモリーデバイスの製造プロセス用途のみならず、通信用デバイスや今後のメモリーデバイスであるＦｅＲＡＭやＭＲＡＭの製造プロセス用途での非常に広いアプリケーションのマーケットにも実績を誇っています。
設立：１９７２年
本社：米国カリフォルニア州
Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ：Ｔｈｏｍａｓ Ｒ．Ｍｉｋａ
詳細につきましては、ウェブサイト（ http://www.tegal.com ）をご覧ください。
以上