レーザーテック、ＥＵＶＬマスク・サブストレート／ブランクス検査装置「Ｍ７３６０」を発表
新製品ＥＵＶＬマスク・サブストレート／ブランクス検査装置
「Ｍ７３６０」を発表
【概要】
この度レーザーテックは、ＥＵＶＬ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）用マスク・サブストレート／ブランクス検査装置の最新モデルＭ７３６０を発表致します。
【背景】
レーザーテックは、２００２年よりＳＥＭＡＴＥＣＨとＥＵＶＬ用マスク・サブトトレート／ブランクス検査装置の共同開発を進めてまいりました。この度ＳＥＭＡＴＥＣＨとの共同開発プロジェクトを成功裏に終了し、その開発成果であるＥＵＶＬ対応異物検査装置Ｍ７３６０の販売を開始致します。
ＥＵＶＬは、半導体業界において次世代リソグラフィーとして最も実現が期待されている技術であり、３２ｎｍＨＰノード以降のデバイス製造で実用化が見込まれます。ＥＵＶＬでは、マスク表面で反射層を形成する多層膜の内部にある微小異物でさえキラー欠陥となり、これらの極微小欠陥も検出可能な本Ｍ７３６０による検査はマスク・ブランクスの品質を飛躍的に向上させると期待されます。
Ｍ７３６０は、既に業界標準になっており「ＭＡＧＩＣＳ」の愛称で親しまれているマスク・サブストレート／ブランクス検査装置シリーズの中で、最高の検出感度を誇ります。
【特長】
・高感度、高分解能、高コントラスト、フレア極小化
・１ 台で検査及びレビューが可能。
・ヘイズや色むらの影響が小さく、マスク・ブランクス製造過程におけるあらゆる基板について高い感度で検査可能。
・ハイ・スループット
【用途】
・ＥＵＶＬ用マスク・サブストレートの検査、ＥＵＶＬ用マスク・ブランクスの検査、欠陥のレビュー、測定
【主な仕様】
・検査光源波長：２６６ｎｍ
・検出感度：３０ｎｍ
・検査時間：１時間／枚
・マスクサイズ：６０２５
“ＳＥＭＡＴＥＣＨ”は米国に本拠を置き、次世代半導体生産にクリティカルな材料・プロセス・装置技術の開発に取り組むコンソーシアムです。
“ＭＡＧＩＣＳ”はＭｕｌｔｉｐｌｅ ｉｍａｇｅ Ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｇｉｇａ－ｂｉｔ ｐａｔｔｅｒｎ Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｗｉｔｈ Ｃｏｎｆｏｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍの略称です。
マスク・サブストレートとは、マスク・ブランクスを作る前のガラス基板です。
マスク・ブランクスとは、パターニングされる前のフォトマスク製造用の基板です。
【標準販売価格】
本体価格１２億円（価格は仕様により異なります）
【受注開始時期】
２００６年１０月３０日